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硅片切割-硅片減薄-晶圓研磨厚度規(guī)格按客戶需求定制

發(fā)布時(shí)間：

2024-02-26

SC-1清洗液是能去除顆粒和有機(jī)物質(zhì)的堿性溶液。由于過(guò)氧化氫為強(qiáng)氧化劑，能氧化硅片表面和顆粒。顆粒上的氧化層能提供消散機(jī)制，分裂并溶解顆粒，破壞顆粒和硅片表面之間的附著力，而脫離硅表面。過(guò)氧化氫的氧化效應(yīng)也在硅片表面形成一個(gè)保護(hù)層，阻止顆粒重新粘附在硅片表面。隨后將硅片放入到10%的HF溶液中浸泡2分鐘，可以將硅片表面自然生成的氧化膜去除并抑制氧化膜再次形成，同時(shí)HF酸還可以將附著在氧化膜上的金屬污染物溶解掉。

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硅片清洗劑洗劑配方

什么是精細(xì)化工產(chǎn)品？

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